Study of the I-V characteristics of nanostructured Pd films on a Si substrate after vacuum annealing

Назва статті Study of the I-V characteristics of nanostructured Pd films on a Si substrate after vacuum annealing
ПосиланняTomilin S. V., Yanovsky A. S., Tomilina O. A., Mikaelyan . R. Study of the I-V characteristics of nanostructured Pd films on a Si substrate after vacuum annealing. Semiconductors . 2013. Т. 47. № 6. C. 782-786 . URL: http://apps.webofknowledge.com/InboundService.do;jsessionid=A3A7B9C04EAD3C4756DD396BBB78FF0D?customersID=RID&mode=FullRecord&IsProductCode=Yes&product=WOS&Init=Yes&Func=Frame&DestFail=http%3A%2F%2Fwww.webofknowledge.com&action=retrieve&SrcApp=RID&SrcAuth=.
Електронне посиланняhttp://apps.webofknowledge.com/InboundService.do;jsessionid=A3A7B9C04EAD3C4756DD396BBB78FF0D?customersID=RID&mode=FullRecord&IsProductCode=Yes&product=WOS&Init=Yes&Func=Frame&DestFail=http%3A%2F%2Fwww.webofknowledge.com&action=retrieve&SrcApp=RID&SrcAuth=
Автори
  • Tomilin S. V. ; ;
  • Tomilina O. A. ; ;
  • Yanovsky A. S.; ;
  • Mikaelyan G. R.; ;
Назва журналу (збірника)Semiconductors
Статус журнала (збірника)Закордонний
Рік видання2013
Том47
Номер (випуск)6
Номери сторінок782-786
Кількість друкованих аркушів0.20
Галузь наукиПриродничо-математичні і технічні
Мова виданняАнглійська
Категорія
Публікація в періодичному виданні
Категорія WOS,